Reseña acerca de Semiconductores Intrínsecos y Dopados

1. Elaborado por Javier Ruiz G.

2. Se dice que un semiconductor es “intrínseco” cuando se encuentra en
estado puro, o sea, que no contiene ninguna impureza, ni átomos de
otro tipo dentro de su estructura. En ese caso, la cantidad de huecos
que dejan los electrones en la banda de valencia al atravesar la banda
prohibida será igual a la cantidad de electrones libres que se encuentran
presentes en la banda de conducción.
Cuando se eleva la temperatura de la red cristalina de un elemento
semiconductor intrínseco, algunos de los enlaces covalentes se rompen
y varios electrones pertenecientes a la banda de valencia se liberan de
la atracción que ejerce el núcleo del átomo sobre los mismos.
http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_semiconductor_4.htm

3. Esos electrones libres saltan a la banda de conducción y allí
funcionan como “electrones de conducción”, pudiéndose desplazar
libremente de un átomo a otro dentro de la propia estructura
cristalina, siempre que el elemento semiconductor se estimule con el
paso de una corriente eléctrica.
http://www.asifunciona.com/fisica/ke_semiconductor/ke_semiconductor_4.htm

4. Es un cristal de silicio o Germanio que forma una
estructura tetraédrica similar a la del carbono mediante enlaces
covalentes entre sus átomos, en la figura representados en el
plano por simplicidad. Cuando el cristal se encuentra a
temperatura ambiente algunos electrones pueden absorber la
energía necesaria para saltar a la banda de conducción dejando
el correspondiente hueco en la banda de valencia (1). Las
energías requeridas, a temperatura ambiente, son de 0,7 eV y 0,3
eV para el silicio y el germanio respectivamente.
Obviamente el proceso inverso también se produce, de modo que
los electrones pueden caer, desde el estado energético
correspondiente a la banda de conducción, a un hueco en la
banda de valencia liberando energía. A este fenómeno se le
denomina recombinación. Sucede que, a una determinada
temperatura, las velocidades de creación de pares e-h, y de
recombinación se igualan, de modo que la concentración global
de electrones y huecos permanece invariable. Siendo "n" la
concentración de electrones (cargas negativas) y "p" la
concentración de huecos (cargas positivas), se cumple que: ni =
n=p
http://es.wikipedia.org/wiki/Semiconductor#Semiconductores_intr.C3.ADnsecos

5. Siendo ni la concentración intrínseca del
semiconductor, función exclusiva de la temperatura y
del tipo de elemento. Los electrones y los huecos
reciben el nombre de portadores. En los
semiconductores, ambos tipos de portadores
contribuyen al paso de la corriente eléctrica. Si se
somete el cristal a una diferencia de potencial se
producen dos corrientes eléctricas. Por un lado la
debida al movimiento de los electrones libres de la
banda de conducción, y por otro, la debida al
desplazamiento de los electrones en la banda de
valencia, que tenderán a saltar a los huecos próximos
(2), originando una corriente de huecos con 4 capas
ideales y en la dirección contraria al campo eléctrico
cuya velocidad y magnitud es muy inferior a la de la
banda de conducción.
http://es.wikipedia.org/wiki/Semiconductor#Semiconductores_intr.C3.ADnsecos

6. En la producción de semiconductores, se denomina dopaje al
proceso intencional de agregar impurezas en un semiconductor
extremadamente puro (también referido como intrínseco) con el
fin de cambiar sus propiedades eléctricas.
Las impurezas utilizadas dependen del tipo de semiconductores
a dopar. A los semiconductores con dopajes ligeros y
moderados se los conoce como extrínsecos.
Un semiconductor altamente dopado que actúa más como
un conductor que como un semiconductor es
llamado degenerado.
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

7. El número de átomos dopantes necesitados para
crear una diferencia en las capacidades conductoras
de un semiconductor es muy pequeña. Cuando se
agregan un pequeño número de átomos dopantes (en
el orden de 1 cada 100.000.000 de átomos) entonces
se dice que el dopaje es bajo o ligero.
Cuando se agregan muchos más átomos (en el orden
de 1 cada 10.000 átomos) entonces se dice que el
dopaje es alto o pesado. Este dopaje pesado se
representa con la nomenclatura N+ para material de
tipo N, o P+ para material de tipo P.
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

8. Tipo de Materiales Dopantes: Tipo N
Se llama material tipo N al que posee átomos de impurezas que permiten
la aparición de electrones sin huecos asociados a los mismos. Los
átomos de este tipo se llaman donantesya que "donan" o entregan
electrones. Suelen ser de valencia cinco, como el Arsénico y el Fósforo.
De esta forma, no se ha desbalanceado la neutralidad eléctrica, ya que el
átomo introducido al semiconductor es neutro, pero posee un electrón no
ligado, a diferencia de los átomos que conforman la estructura
original, por lo que la energía necesaria para separarlo del átomo será
menor que la necesitada para romper una ligadura en el cristal
de silicio (o del semiconductor original
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

9. Tipo de Materiales Dopantes: Tipo N
Finalmente, existirán más electrones que huecos, por lo que los primeros
serán los portadores mayoritarios y los últimos los minoritarios. La
cantidad de portadores mayoritarios será función directa de la cantidad
de átomos de impurezas introducidos.
El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Fósforo (dopaje N).
En el caso del Fósforo, se dona un electrón.
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

10. Tipo de Materiales Dopantes: Tipo P
Se llama así al material que tiene átomos de impurezas que permiten la
formación de huecos sin que aparezcan electrones asociados a los
mismos, como ocurre al romperse una ligadura. Los átomos de este tipo
se llaman aceptores, ya que "aceptan" o toman un electrón. Suelen ser
de valencia tres, como el Aluminio, el Indio o el Galio.
Nuevamente, el átomo introducido es neutro, por lo que no modificará la
neutralidad eléctrica del cristal, pero debido a que solo tiene tres
electrones en su última capa de valencia, aparecerá una ligadura rota,
que tenderá a tomar electrones de los átomos próximos, generando
finalmente más huecos que electrones, por lo que los primeros serán los
portadores mayoritarios y los segundos los minoritarios.
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)

11. Tipo de Materiales Dopantes: Tipo P
Al igual que en el material tipo N, la cantidad de portadores mayoritarios
será función directa de la cantidad de átomos de impurezas introducidos.
El siguiente es un ejemplo de dopaje de Silicio por el Boro (P dopaje). En
el caso del boro le falta un electrón y, por tanto, es donado un hueco de
electrón.
http://es.wikipedia.org/wiki/Dopaje_(semiconductores)