1. OPTICAL METROLOGY & POLARIMETRYMicro and Nano-Technology-Scientific Consulting by SERMA Technologies 19.01.2011F.Ferrieu Micro and Nano-Technology-Scientific Consulting and Expertise OMP _S.I.R.E.T 52230889900015 1 Expertise/ consultant développement & veille technologique sur les techniques de Metrologie Optique et applications utilisant la polarimétrie Grace à notre expérience nous pouvons assurer l’interface avec des laboratoires de mesures sur les problématiques Industrielles en proposant une caractérisation optique adéquate (couches minces, nouveaux matériaux, nanotechnologies off line et in line). Ces Travaux bénéficient ainsi de l’Environnement de Recherche du LETI -un potentiel de métrologie unique avec MINATEC et SERMA : -compléter les analyses (TEM, SIMS, ..) et les autres moyens des acteurs de et donc un accés à des Instruments d’Optique de Métrologie industrielles et interface avec les laboratoires développant les dernier instruments d’optique innovants.

2. OPTICAL METROLOGY & POLARIMETRYMicro and Nano-Technology-Scientific Consulting by SERMA Technologies Materiaux nouveaux cristallins ou amorphes Mesures in situ in line ou off line Multi couches et Nanotechnologies Etudes de surface par Polarimetrie Adsorption de Surface et porosimetrie 19.01.2011 OMP _S.I.R.E.T Micro and Nano-Technology-Scientific Consulting and Expertise OMP _S.I.R.E.T 52230889900015 52230889900015 1

4. Analyse matériaux : propriétés physique et (ou) contrôle composition C, O dans silicium ( spectroscopie ellipso Infra rouge ) epi sur substrat dopé mesure epaisseur- couches PZT sur Platine réflectivité infra rouge

5. Analyse et Optimisation Montage métrologie intégrée sur de systemes in situ

6. Off line et in line composition alliages III V type AsGa composés binaires ou ternaires SiGe, SiGeC, SiCbulk et couches minces

8. Analyse des verres, composés terres rares Hf, La,Y(VUV SE )

9. Porosimetrie Adsorption de surface (rugosité LER) et bulk ( taille des pores)

10. Couches implantées et recuit laser pulsé ( profils de défauts).

11. Polarimetrie: Structure Photoniques et Lithographie Scattérometrie modélisation et mesures pour optimisation de structures.. 19.01.2011 OMP _S.I.R.E.T Micro and Nano-Technology-Scientific Consulting and Expertise OMP _S.I.R.E.T 52230889900015 52230889900015 1

13. Formation à l’utilisation et à l’optimisation des données des instruments de mesure.

16. Reviewer dans différents Journaux scientifiques TSF1, JOSA2 et EJAP3.

17. Participation différents projets industriels dans le domaine de l’instrumentation (premiers ellipsometres spectroscopiques visible, infrarouge et extrême Ultraviolet en France )

18. Connaissance et interactions en NDA avec différents groupes au niveau mondial en Ellipsometrie, Reflectometrie et Polarimetrie : KLA Tencor , J. Woollam, Horiba Scientific et, SopraLab

19. http://www.serma.com

20. http://www.optic-mueller.com/siteweb20101Thin Solid Films, 2Journal of The Optical Society of America, 3European Journal of Applied Physics OMP _S.I.R.E.T Micro and Nano-Technology-Scientific Consulting and Expertise OMP _S.I.R.E.T 52230889900015 52230889900015