鍍膜

化學鍍金 Chemical Plating ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

濺散蒸著 ( 一 ) ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

濺散蒸著 ( 二 ) ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

離子鍍金 Ion Plating ,[object Object],(1) 電漿法 ─ 二極式、高週波蒸發源 ( 陽極 ) ─ 其間通 Ar 氣產生輝光放電，將蒸發源基板 ( 陰極 ) 所蒸發的原子離子化，再對基板施加負電壓 (-1~-5kv) 時，電場將離子高速射向基板而蒸著。同時亦會產生基板電阻式 (W 、 Mo) 負離子 (Ar+ ，蒸發源離子 ) 而蝕刻，只是蒸著速度比蝕刻速度來的大。密著性佳，因蝕刻而有清淨表面的功能。 (2) 離子束法 ─ 把離子源發生的蒸著物質離子引出於高真空領域中，直接蒸著於基板上。加熱

離子鍍金 ─ 應用 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

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CVD 特色極限制 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 薄膜的應用 ,[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 薄膜製作方法 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 鑽石的生長 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 鑽石的生長 ,[object Object]

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CVD 薄膜的 C-H-O 之關係圖 ,[object Object]

CVD 薄膜與碳源、氫濃度關係 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 成長速率、碳源濃度和甲烷濃度關係圖 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 鑽石的生長方法 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

CVD 鑽石晶形指數 ,[object Object],[object Object]

PVD 鑽石薄膜運用 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

PVD 和 CVD 鑽石薄膜厚度關係圖 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

PVD 鍍膜粗度比較圖 ,[object Object]

PVD 鍍膜表面圖 ,[object Object]

PVD 鍍膜原理 ( 一 ) ,[object Object],蒸鍍 (Evaporation Deposition)

PVD 鍍膜原理 ( 二 ) ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],濺射 (Sputter Deposition)

PVD 鍍膜原理 ( 三 ) ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],射鍍 (Ion plating)

PVD 薄膜特性 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

PVD 濺鍍 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

PVD 與 CVD 溫度之差異 ,[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

各種鍍膜溫度比較圖 ,[object Object]

PVD 鍍膜技術 ( 一 ) ,[object Object]

PVD 鍍膜技術 ( 二 ) ,[object Object]

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