En la fabricacin de semiconductores, el grabado qumico hmedo se usa a menudo para eliminar el silicio de la parte posterior de las obleas antes de la metalizacin. La tasa de grabado es una caracterstica importante en este proceso y se sabe que sigue una distribucin normal. Se compararon dos soluciones de grabado diferentes, usando dos muestras aleatorias de 10 obleas para cada solucin. lo observado Las tasas de grabado son las siguientes (en milsimas de pulgada por minuto): Solucin 1 9,9 9,4 9,3 9,6 10,2 10,6 10,3 10,0 10,3 10,1 Solucin 2 10,2 10,6 10,7 10,4 10,5 10,0 10,2 10,7 10,4 10,3 a. Calcule la media muestral y la varianza estndar para cada muestra. b. Realice una prueba de hiptesis para comprobar si las tasas medias de grabado son las mismas para las dos soluciones diferentes con un nivel de significancia de 0,05. C. Qu suposiciones se requieren para asegurar la validez de la prueba en (b)?.