SlideShare une entreprise Scribd logo
1  sur  23
Réalisé par :
DIMOKRATI Ahmed
Dimokrati.ahmed@gmail.com
Encadré par :
Mr.AMJOUD M’barek
2014-2015
Dans le cadre de la complémentarité du module de
technologie des couches minces
1
 INTRODUCTION
 LITHOGRAPHIE
 Principe.
 Les différentes techniques de la Lithographie.
▪ Lithographie optique.
▪ Lithographie à faisceau d’électrons.
 Comparatif des deux techniques.
 Nano-impression.
 ITRS
 APPLICATION (Transistor MOS)
 CONCLUSION
2
Richard feynman (1959)
3
4
 Principe:
Substrat Résine photosensible Masque
+ +
+
Exposition Développement 5
6
 Dépôt de la résine photosensible:
 Facteurs liés au spiner : vitesse de
rotation, accélération et le temps de
l’opération.
 Facteurs lies au matériau déposé
(résine): quantité, concentration dans le
solvant, sa viscosité
7
 Les différents types de résines utilisées:
8
 La résolution
 Pour la lithographie optique par projection la
résolution est définie par le critère de Rayleigh:
K1: paramètre qui dépend du procédé (résine, appareillage,…)
Y : longueur d’onde d’insolation
NA: l’ouverture numérique du système optique
9
 Tracer directement les
motifs sur la résine
electrosensible.
 Avoir des résolutions de
l’ordre du nanomètre
 Un processus trop lent
Ultra High resolution in PMMA
16 nm line width
10
• Eléments principales d’une colonne optique:
•Source d’électrons
•Lentilles
électroniques
(condenseurs)
•Lentille magnétique
11
Photolithographie EBL
• Problème de Diffraction de la
lumière.
• En utilisant des longueurs
d’onde de 193 nm on peut
arriver à des résolutions de 80
nm.
• L’impression se fait d’une
façon parallèle.
•Très adaptée à la production
en masse
• Sans masque
• On peut atteindre des
résolutions d’un nanomètre.
• L’impression s’effectue point
par point
• Réservée aux travaux de
recherches et quelques
applications spécifiques
VS
12
13
14
15
16
17
18
19
20
21
22
 Lithographie de nouvelles génération par nano
impression assistée par UV : étude et développement
de matériaux et procédés pour l’application
microélectronique, thèse de Paulin voisin.
 Electron beam lithography of nanostructures, D A
Tennant and A R Bleier, Cornell University 2011
Elsevier B.V.
 Etude et caractérisation des films minces lors du
procédé de Lithographie par nano impression, these
de Fréderic Lazzarino.
 B.J. Lin, C.R. Physique 7 (2006) “Optical Lithography-
presents and future challenges”.
23

Contenu connexe

Tendances

Transfert De Chaleur Par Convection Forcée
Transfert De Chaleur Par Convection ForcéeTransfert De Chaleur Par Convection Forcée
Transfert De Chaleur Par Convection Forcée
IbrahimOuanezar
 
Cours d'électronique
Cours d'électroniqueCours d'électronique
Cours d'électronique
Raja Birje
 

Tendances (20)

Chapitre 1234 matériaux
Chapitre 1234 matériauxChapitre 1234 matériaux
Chapitre 1234 matériaux
 
Chimie de polymère
Chimie de polymèreChimie de polymère
Chimie de polymère
 
Cours Sciences des Matériaux 2010 2011
Cours Sciences des Matériaux 2010 2011Cours Sciences des Matériaux 2010 2011
Cours Sciences des Matériaux 2010 2011
 
Conductivite thermique dans le solide
Conductivite thermique dans le solideConductivite thermique dans le solide
Conductivite thermique dans le solide
 
Projet ROBOT MOBILE SUIVEUR DE LIGNE BASE SUR LE TRAITEMENT D'IMAGE
Projet ROBOT MOBILE SUIVEUR DE LIGNE BASE SUR LE TRAITEMENT D'IMAGEProjet ROBOT MOBILE SUIVEUR DE LIGNE BASE SUR LE TRAITEMENT D'IMAGE
Projet ROBOT MOBILE SUIVEUR DE LIGNE BASE SUR LE TRAITEMENT D'IMAGE
 
Correction Examen 2014-2015 RDM
Correction Examen 2014-2015 RDMCorrection Examen 2014-2015 RDM
Correction Examen 2014-2015 RDM
 
LA SPECTROSCOPIE INFRAROUGE
LA SPECTROSCOPIE  INFRAROUGELA SPECTROSCOPIE  INFRAROUGE
LA SPECTROSCOPIE INFRAROUGE
 
Cours master phys sc chap 1 2015
Cours master phys sc chap 1 2015Cours master phys sc chap 1 2015
Cours master phys sc chap 1 2015
 
Présentation énergie éolienne
Présentation énergie éoliennePrésentation énergie éolienne
Présentation énergie éolienne
 
Transfert De Chaleur Par Convection Forcée
Transfert De Chaleur Par Convection ForcéeTransfert De Chaleur Par Convection Forcée
Transfert De Chaleur Par Convection Forcée
 
Traitement superficiel des aciers
Traitement superficiel des aciersTraitement superficiel des aciers
Traitement superficiel des aciers
 
Contrôle non destructif par Radiographie
Contrôle non destructif par RadiographieContrôle non destructif par Radiographie
Contrôle non destructif par Radiographie
 
Limites classiques de toutes les fonctions 4
Limites classiques de toutes les fonctions 4Limites classiques de toutes les fonctions 4
Limites classiques de toutes les fonctions 4
 
Cours d'électronique
Cours d'électroniqueCours d'électronique
Cours d'électronique
 
Métaux et alliages non ferreux lourds Cu, Ni, Co et autres
Métaux et alliages non ferreux lourds Cu, Ni, Co et autresMétaux et alliages non ferreux lourds Cu, Ni, Co et autres
Métaux et alliages non ferreux lourds Cu, Ni, Co et autres
 
présentation soutenance PFE 2016
présentation soutenance PFE 2016présentation soutenance PFE 2016
présentation soutenance PFE 2016
 
Structure du rapport d'etat d'avancement doctorat
Structure du rapport d'etat d'avancement doctoratStructure du rapport d'etat d'avancement doctorat
Structure du rapport d'etat d'avancement doctorat
 
124776153 td-automatique-1 a-jmd-2011
124776153 td-automatique-1 a-jmd-2011124776153 td-automatique-1 a-jmd-2011
124776153 td-automatique-1 a-jmd-2011
 
Présentation de thèse de doctorat
Présentation de thèse de doctoratPrésentation de thèse de doctorat
Présentation de thèse de doctorat
 
Traitement d'image sous Matlab
Traitement d'image sous Matlab  Traitement d'image sous Matlab
Traitement d'image sous Matlab
 

Similaire à Lithography

03 idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
03  idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]03  idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
03 idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
Yann Dieulangard
 
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
docteurgyneco1
 
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdfEtude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
docteurgyneco1
 
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
docteurgyneco1
 
Nanotechnologie et architectures de calcul
Nanotechnologie et architectures de calculNanotechnologie et architectures de calcul
Nanotechnologie et architectures de calcul
Ciprian Teodorov
 

Similaire à Lithography (20)

BEEM magnetic microscopy - Data Storage
BEEM magnetic microscopy - Data StorageBEEM magnetic microscopy - Data Storage
BEEM magnetic microscopy - Data Storage
 
03 idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
03  idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]03  idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
03 idil - journées-nir-capbiotek2012 [mode de compatibilité]
 
Photodiode
PhotodiodePhotodiode
Photodiode
 
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
fdocuments.net_la-fibre-optique-21-mars-2013-david-carrin-sommaire-introducti...
 
Apm Nanotech Partie 1
Apm Nanotech Partie 1Apm Nanotech Partie 1
Apm Nanotech Partie 1
 
fdocuments.net_formation-fibre-optique.pdf
fdocuments.net_formation-fibre-optique.pdffdocuments.net_formation-fibre-optique.pdf
fdocuments.net_formation-fibre-optique.pdf
 
Optique
OptiqueOptique
Optique
 
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdfEtude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
Etude_Etude_des_supports_de_transmission.pdf
 
Cours nanotechnology
Cours nanotechnologyCours nanotechnology
Cours nanotechnology
 
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
0025-formation-reseaux-fibre-optique.pdf
 
Nanotechnologie et architectures de calcul
Nanotechnologie et architectures de calculNanotechnologie et architectures de calcul
Nanotechnologie et architectures de calcul
 
Projet fibre optique master 1 télécom & réseaux
Projet fibre optique master 1 télécom & réseauxProjet fibre optique master 1 télécom & réseaux
Projet fibre optique master 1 télécom & réseaux
 
PhD Presentation
PhD PresentationPhD Presentation
PhD Presentation
 
cours-gratuit.com--id-12501.pdf
cours-gratuit.com--id-12501.pdfcours-gratuit.com--id-12501.pdf
cours-gratuit.com--id-12501.pdf
 
0199-formation-fibre-optique(1).pdf
0199-formation-fibre-optique(1).pdf0199-formation-fibre-optique(1).pdf
0199-formation-fibre-optique(1).pdf
 
Mesures otdr
Mesures  otdrMesures  otdr
Mesures otdr
 
Imprimes electroniques un_second_souffle_pour_l_imprimerie
Imprimes electroniques un_second_souffle_pour_l_imprimerieImprimes electroniques un_second_souffle_pour_l_imprimerie
Imprimes electroniques un_second_souffle_pour_l_imprimerie
 
Projet Bac2
Projet Bac2Projet Bac2
Projet Bac2
 
Fibre optique
Fibre optiqueFibre optique
Fibre optique
 
TP-Master-1.pdf
TP-Master-1.pdfTP-Master-1.pdf
TP-Master-1.pdf
 

Lithography

  • 1. Réalisé par : DIMOKRATI Ahmed Dimokrati.ahmed@gmail.com Encadré par : Mr.AMJOUD M’barek 2014-2015 Dans le cadre de la complémentarité du module de technologie des couches minces 1
  • 2.  INTRODUCTION  LITHOGRAPHIE  Principe.  Les différentes techniques de la Lithographie. ▪ Lithographie optique. ▪ Lithographie à faisceau d’électrons.  Comparatif des deux techniques.  Nano-impression.  ITRS  APPLICATION (Transistor MOS)  CONCLUSION 2
  • 4. 4
  • 5.  Principe: Substrat Résine photosensible Masque + + + Exposition Développement 5
  • 6. 6
  • 7.  Dépôt de la résine photosensible:  Facteurs liés au spiner : vitesse de rotation, accélération et le temps de l’opération.  Facteurs lies au matériau déposé (résine): quantité, concentration dans le solvant, sa viscosité 7
  • 8.  Les différents types de résines utilisées: 8
  • 9.  La résolution  Pour la lithographie optique par projection la résolution est définie par le critère de Rayleigh: K1: paramètre qui dépend du procédé (résine, appareillage,…) Y : longueur d’onde d’insolation NA: l’ouverture numérique du système optique 9
  • 10.  Tracer directement les motifs sur la résine electrosensible.  Avoir des résolutions de l’ordre du nanomètre  Un processus trop lent Ultra High resolution in PMMA 16 nm line width 10
  • 11. • Eléments principales d’une colonne optique: •Source d’électrons •Lentilles électroniques (condenseurs) •Lentille magnétique 11
  • 12. Photolithographie EBL • Problème de Diffraction de la lumière. • En utilisant des longueurs d’onde de 193 nm on peut arriver à des résolutions de 80 nm. • L’impression se fait d’une façon parallèle. •Très adaptée à la production en masse • Sans masque • On peut atteindre des résolutions d’un nanomètre. • L’impression s’effectue point par point • Réservée aux travaux de recherches et quelques applications spécifiques VS 12
  • 13. 13
  • 14. 14
  • 15. 15
  • 16. 16
  • 17. 17
  • 18. 18
  • 19. 19
  • 20. 20
  • 21. 21
  • 22. 22
  • 23.  Lithographie de nouvelles génération par nano impression assistée par UV : étude et développement de matériaux et procédés pour l’application microélectronique, thèse de Paulin voisin.  Electron beam lithography of nanostructures, D A Tennant and A R Bleier, Cornell University 2011 Elsevier B.V.  Etude et caractérisation des films minces lors du procédé de Lithographie par nano impression, these de Fréderic Lazzarino.  B.J. Lin, C.R. Physique 7 (2006) “Optical Lithography- presents and future challenges”. 23