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CHAPITRE 1A
Rappels:
Semi-conducteur à l’équilibre
1
Semi-conducteurs à l’équilibre
• Dopage des semi-conducteurs
• Semi-conducteur intrinsèque
• Le dopage n et p
• Calcul de la densité de porteurs extrinsèques
2
Semi-conducteurs
• Structure en bandes
d’énergie:
• Bande de valence: c’est la
dernière bande remplie à
T=0K
• Bande de conduction: c’est
la bande immédiatement au
dessus et vide à T=0K
3
Notion de trous (+e !)
• La notion de bandes
permet d’introduire le
porteur de charge positif
: un trou
4
 Aux températures
différentes de 0 K,
électrons « montent » dans
BC, laissent des « trous »
dans la BV
Conduction bipolaire
• La présence d’électrons et 
trous entraîne une conduction 
bipolaire dans les SC
5
 On peut privilégier une       
conduction par le dopage  
du semi‐conducteur, ie
l’introduction d’impuretés
E externe
Électrons dans une structure Diamant (ex: Si)
6
Électrons dans une structure Diamant (ex: Si)
7
Densité de porteurs dans les bandes
• Fonction de Fermi:
• Densité d’états:
• Densité de porteurs:
8
Eg
kT
F
E
E
e
E
f /
)
(
1
1
)
( 


2
/
1
2
/
3
2
*
2
)
(
2
2
1
)
( C
c
C E
E
m
E
N 











2
/
1
2
/
3
2
*
2
)
(
2
2
1
)
( E
E
m
E
N V
v
v 














C
E
n
C dE
E
f
E
N
n ).
(
).
(



V
E
p
v dE
E
f
E
N
p ).
(
).
(
Densité de porteurs dans les bandes
• Approximation de Boltzmann:
• Si le niveau de Fermi est à plus de « 3kT » du minimum de la
bande de conduction ou du maximum de la bande de valence, on
peut simplifier la fonction de distribution:
9
kT
E
E
e
E
n
f F
/
)
(
)
( 

 kT
E
E
e
E
n
f F
/
)
(
)
( 


kT
E
E
e
E
p
f F
/
)
(
)
(



kT
E
E
e
E
p
f F
/
)
(
)
(



Densité de porteurs dans les bandes
• Dans ces conditions (Boltzmann), la densité de
porteurs libres s’écrit:
• Dans la bande de conduction (électrons):
• Dans la bande de valence (trous):
10
)
exp(
kT
E
E
N
n F
C
C


 )
exp(
kT
E
E
N
n F
C
C



)
exp(
kT
E
E
N
p v
F
v


 )
exp(
kT
E
E
N
p v
F
v



avec
2
/
3
2
*
2
2 








h
kT
m
N C
C
2
/
3
2
*
2
2 








h
kT
m
N C
C
2
/
3
2
*
2
2 








h
kT
m
N v
v
2
/
3
2
*
2
2 








h
kT
m
N v
v
avec
Loi d’action de masse np=ni
2
• Dans un semi-conducteur intrinsèque, la densité de
trous est égale à la densité d’électrons:
• En faisant n=p, on obtient le niveau de Fermi
intrinsèque:
11
2
2
/
3
*
*
3
2
)
exp(
)
(
2
4 i
g
h
e n
kT
E
m
m
kT
np 










)
ln(
2
2 V
C
V
C
Fi
i
N
N
kT
E
E
E
E 



Semi-conducteur intrinsèque
• Variation exponentielle
de la densité de
porteurs
• Si ni>1015cm-3, le
matériau inadapté pour
des dispositifs
électroniques.
12
SC à grands « gap »
Type SiC, GaN, Diamant
 Remarque:
 Le produit np est
indépendant du
niveau de Fermi
Expression valable même
si semi-conducteur dopé
Introduction du dopage
Dopage: introduction de niveau énergétique
dans le gap
13
Dopage type n Dopage type p
Dopage d’un SC: type n
14
Dopage d’un SC: type p
15
Variation de la conduction d’un semi-conducteur dopé en fonction
de la température
16
3 régimes:
•Extrinsèque
•Épuisement des donneurs
•Intrinsèque
Tous les « donneurs
sont ionisés
Calcul de la position du niveau énergétique
Ed ou Ea
• Le problème « ressemble »
au modèle de l’atome
d’hydrogène
• Introduction du Rydberg
« modifié » :
17
2
0
0
*
6
.
13 

















m
m
E
E C
d
Exemple de dopants et leurs énergies
eV
n
e
m
En 2
2
2
0
4
0
6
.
13
)
4
(
2




Densité de porteurs extrinsèques:
• nb d’électrons différents du nb de trous
• Mais loi d’action de masse toujours valable, avec n.p=cte
(sauf si dopage trop élevé).
• Pour déterminer ces concentrations (n et p), on écrit la
neutralité électrique du système.
18
0



 n
p
n
cste
n
p
n i 
 2
.
0
)
( 2
2



 i
A
D n
n
N
N
n
D
A N
p
N
n 


Densité de porteurs extrinsèques:
• Semi-conducteurs type n (ND>NA):
• Dans la pratique (ND, NA, et ND – NA >> )ni si bien que:
19
 
  




 










 




2
1
2
2
2
1
2
2
4
)
(
2
1
4
)
(
2
1
i
A
D
A
D
i
A
D
A
D
n
N
N
N
N
p
n
N
N
N
N
n
)
/(
2
A
D
i
A
D
N
N
n
p
N
N
n




Niveau de Fermi dans un SC dopé
• Si le SC n’est pas dégénéré, l’approximation de
Boltzmann reste valable:
• Type n et p respectivement
• Soit un niveau de Fermi type n et type p donné par:
20
)
exp(
)
exp(
kT
E
E
N
N
N
p
kT
E
E
N
N
N
n
V
F
V
D
A
F
C
C
A
D
p
n










))
/(
ln(
))
/(
ln(
D
A
V
V
F
A
D
C
C
F
N
N
N
kT
E
E
N
N
N
kT
E
E
p
n






Différence Ef - Efi
• Au lieu d’exprimer Ef en fonction de Nc et Nv, on peut
écrire:
type n
type p
21










i
d
i
f
n
N
kT
E
E ln










i
a
f
i
n
N
kT
E
E ln
Fi
e
• On peut alors exprimer les densité d’électrons et de trous
à l’équilibre par:
22
kT
e
i
kT
E
E
i
kT
e
i
kT
E
E
i
Fi
Fi
F
Fi
Fi
F
e
n
e
n
p
e
n
e
n
n
/
/
)
(
/
/
)
(










avec:
0
0






Fi
F
Fi
Fi
F
Fi
E
E
e
E
E
e

 type n
type p
Équations de
Boltzmann
Différence Ef - Efi
Semi-conducteurs dégénérés:
approximation de Joyce –Dixon
• Dans ce cas , l’approximation de Boltzmann n’est
plus valable pour le calcul:
• soit de n et p
• soit de la position du niveau de Fermi:
on utilise alors l’approximation de Joyce-Dixon:
23


















V
V
V
C
C
C
F
N
p
N
p
kT
E
N
n
N
n
kT
E
E
8
1
ln
8
1
ln
Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs
• En fonction de la température, le niveau d’impureté
est plus ou moins peuplé. Supposons un SC « avec »
ND donneurs et NA accepteurs (ND>NA)
• À T=0K
•BV =>pleine
•EA => NA électrons
•ED => ND-NA électrons
•BC => vide
24
Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs
• À température non nulle: les électrons sont redistribués
mais leur nombre reste constant !!!. L’équation de
neutralité électrique permet de connaître leur répartition:
25
A
a
i
D
d
i
N
p
n
p
N
n
n
n






)
(
)
(
a
A
D
d p
p
N
N
n
n 




n, p : électrons (trous) libres dans BC (BV)
nd (pa) : électrons (trous) liés aux donneurs (accepteurs)
Fonction de distribution des atomes d’impuretés –
Principe d’exclusion de Pauli
Comparaison de l’image « chimique » et de la description en
« bande d’énergie » de l’atome donneur ou accepteur:
26
« liaison chimique »
Atome donneur  atome Si +
noyau chargé positivement.
« Bande d’énergie »
Cristal parfait + puits de potentiel
attractif sur un site du réseau
Mécanique quantique
(électrons indépendants)
Niveau énergétique Ed dans
le gap sous Ec doublement
dégénéré (spin up et down)
Interaction Coulombienne
+ écrantage du noyau: Ed
diminue
Le deuxième électron
« s’échappe » : occupation
du niveau par un seul électron
Probabilité d’occupation du niveau
d’impureté
• Proba d’occupation et nb d’électrons sur Ed:
• Proba de non occupation et nb de trous sur Ea:
27
)
exp
2
1
1
(
kT
E
E
f
f
d
n



kT
E
E
N
n
f
d
d
d



exp
2
1
1
)
exp
4
1
1
(
kT
E
E
f
a
f
p



kT
E
E
N
p
a
f
a
a



exp
4
1
1
Niveau « donneur »:le facteur 1/2
• Atome de Phosphore (col V):
• États électroniques 3s² 3p3 : 2e s et 2e p participent aux
liaisons  1e sur le niveau ED (le 5° !)
• il (le 5° !) possède un spin particulier up ou down
• Une fois l’e parti (f(E)) la « case » vide peut
capturer un spin up ou down => le mécanisme (la
proba.) de capture est augmenté / à l’émission.
28
)
(
)
( E
f
E
fD 
Semi-conducteur fortement dopé
• Si dopage trop important, les impuretés se « voient »
(rayon de Bohr 100 angströms)
le niveau d’énergie associé s’élargit
• Un effet important est la diminution du « Gap » du SC et
donc ni augmente!!:
29
meV
K
T
N
E d
g
2
/
1
18
)
(
300
10
5
.
22 










pour le Silicium
CHAPITRE 1B
Semi-conducteurs hors équilibre
30
Plan:
• Recombinaison et génération
• Courants dans les SC
• Équation de densité de courants
• Équations de continuité
• Longueur de Debye
• Équation de Poisson
• Temps de relaxation diélectrique
31
Phénomènes de Génération - Recombinaison
• Loi d’action de masse:
• À l’équilibre thermodynamique:
• Hors équilibre: apparition de phénomènes de Génération -
Recombinaison
• création ou recombinaison de porteurs :
Unité [g]=[r]=s-1cm-3
• Taux net de recombinaison:
32
r
g
r
g
g
r
g th





 '
'
' avec
th
g
r
r 
 '
externe interne
2
i
n
np 
Différents chemins de recombinaison
33
Génération bande à bande
Génération depuis
état lié
Recombinaison: 2 « chemins » possibles
• Recombinaison directe électron-trou
• Processus fonction du nombre d’électron et de trous
• Exemple: type n +excitation lumineuse en faible injection (
ie )
• En régime de faible injection le nombre de porteurs
majoritaires n’est pas affecté.
34
p
p
p
r



n
n
n
r



p
p
p 

 0 0
0 n
n
n
n 



0
n
p
n 



Recombinaison: 2 « chemins » possibles
• Recombinaison par centres de recombinaison:
• En général ces centres se trouvent en milieu de bande interdite
• Le taux de recombinaison s’écrit:
• Où est caractéristique du centre recombinant
• Si les 2 processus s’appliquent:
35
m

)
(
1
1
1
p
n
m





n
p
n
n
np
r
i
i
m 



2
1 2

Équation de
Shockley-Read
Recombinaison: 2 « chemins » possibles
• Si semi-conducteur peu dopé: on applique SR
• Si semi-conducteur dopé n:
• Si région « vide » de porteurs (ex: ZCE)
36
p
p
p
r



0
2



m
i
n
r

Taux net de génération.
Création de porteurs
Excitation lumineuse
37
Type P
Recombinaison radiative ou non
38
Recombinaisons de surface
39
Courants dans les SC
• Courant de conduction: présence de champ électrique
• Si E=0, vitesse des électron=vitesse thermique (107 cm/s) mais =>
vitesse moyenne nulle car chocs (« scattering ») avec le réseau +
impuretés.
• Libre parcours moyen (« mean free path »):
40
o
A
100
. 
 
vth
l ps
1
.
0


Courants dans les SC
• Courant de conduction: présence de champ électrique
• Entre deux chocs, les électrons sont accélérés uniformément
suivant
• Accélération:
• Vitesse:
• Mobilité:
41
*
/m
qE



E

µE
m
qE
v 


 *
/

*
/m
q
µ 

Si : 1500 cm2/Vs
GaAs: 8500 cm2/Vs
In0.53Ga0.47As:11000 cm2/Vs
Courants dans les SC
• La densité de courant de conduction s’écrit:
• Pour les électrons:
• Pour les trous:
• Pour l’ensemble:
42
E
neµ
v
ne
J n
n
n
c 

 E
neµ
v
ne
J n
n
n
c 


E
peµ
v
pe
J p
p
p
c 

 E
peµ
v
pe
J p
p
p
c 


E
peµ
neµ
J
J
J p
n
p
n
total
c )
( 


 E
peµ
neµ
J
J
J p
n
p
n
total
c )
( 



Courants dans les SC
• Importance de la mobilité sur les composants
• Mobilité la plus élevée possible
• => vitesse plus grande pour un même E
• Facteurs limitants:
• Dopage
• Défauts (cristallins, structuraux, …)
• Température
• Champ électrique de saturation + géométrie
43
Courants dans les SC
• Vitesse de saturation des électrons
• La relation linéaire vitesse – champ valide uniquement
pour:
• Champ électrique pas trop élevé
• Porteurs en équilibre thermique avec le réseau
• Sinon:
• Au-delà d’un champ critique, saturation de la vitesse
• Apparition d’un autre phénomène: « velocity overshoot »
pour des semiconducteurs multivallée.
• Régime balistique:pour des dispositifs de dimensions
inférieures au libre parcours moyen (0.1µm)
44
Vitesse de saturation
• Différents
comportement en
fonction du SC
45
Survitesse
(« overshoot »)
46
Survitesse dans le cas de SC
multi vallées
Courants dans les SC
• Courant de diffusion:
• Origine: gradient de concentration
• Diffusion depuis la région de forte concentration vers la région de
moindre [].
• 1° loi de Fick:
47
dx
dp
D
p
dx
dn
D
n
p
x
D
n
x
D




nb d’e- qui diffusent par unité de
temps et de volume (flux)
nb de h+ qui diffusent par unité de
temps et de volume (flux)
Courants dans les SC
• Courant de diffusion: somme des deux contributions
(électrons et trous):
• Constante ou coefficient de diffusion
[ ]=cm2/s.
48
dx
dp
eD
dx
dn
eD
p
n
e
J p
n
x
D
x
D
diff




 )
(
p
n
D ,
Courants dans les SC
• Courant total: somme des deux contributions (si elles existent)
de conduction et diffusion:
• D et µ expriment la faculté des porteurs à se déplacer. Il existe
une relation entre eux: relation d’Einstein:
49
)
(
)
(
dx
dp
D
dx
dn
D
e
E
peµ
neµ
J
J
J
J
J
J
p
n
p
n
T
p
n
diff
cond
T








e
kT
µ
D

e
kT
µ
D

Équations de continuité – longueur de diffusion
• G et R altèrent la distribution des
porteurs donc du courant
50
G
R
e
x
dx
x
dJ
A
dt
t
x
dn
x
A
G
R
e
x
J
e
x
x
J
A
dt
t
x
dn
x
A
n
n
n


















)
(
)
,
(
)
(
)
(
)
,
(
 On obtient alors les équations de
continuité pour les électrons et les trous:
n
n
n
g
r
dx
dJ
e
dt
t
x
dn



1
)
,
(
n
n
n
g
r
dx
dJ
e
dt
t
x
dn



1
)
,
(
p
p
p
g
r
dx
dJ
e
dt
t
x
dp




1
)
,
(
p
p
p
g
r
dx
dJ
e
dt
t
x
dp




1
)
,
(
Équations de continuité – longueur de diffusion
• Exemple: cas où le courant est exclusivement du à
de la diffusion:
51
dx
dp
eD
diff
J
dx
dn
eD
diff
J
p
p
n
n



)
(
)
(
dx
dp
eD
diff
J
dx
dn
eD
diff
J
p
p
n
n



)
(
)
( n
n
n
n
dx
n
d
D
dt
dn

0
2
2



n
n
n
n
dx
n
d
D
dt
dn

0
2
2



p
p
p
p
dx
p
d
D
dt
dp

0
2
2



p
p
p
p
dx
p
d
D
dt
dp

0
2
2



Équations de continuité – longueur de
diffusion
• En régime stationnaire, les
dérivées par rapport au temps
s’annulent:
• Solutions:
52
2
0
0
2
0
2
)
(
n
n
n L
n
n
D
n
n
dx
n
n
d 




 2
0
0
2
0
2
)
(
n
n
n L
n
n
D
n
n
dx
n
n
d 





2
0
0
2
0
2
)
(
p
p
p L
p
p
D
p
p
dx
p
p
d 




 2
0
0
2
0
2
)
(
p
p
p L
p
p
D
p
p
dx
p
p
d 





n
L
x
e
n
n
x
n
x
n /
0 )
0
(
)
)
(
(
)
( 




 n
L
x
e
n
n
x
n
x
n /
0 )
0
(
)
)
(
(
)
( 





 Longueur de diffusion: représente la
distance moyenne parcourue avant
que l’électron ne se recombine avec
un trou (qq microns voire qq mm)
 Ln ou Lp >> aux dispos VLSI
 R et G jouent un petit rôle sauf
dans qq cas précis (Taur et al)
n
n
n D
L 
 n
n
n D
L 
 p
p
p D
L 
 p
p
p D
L 

Équation de Poisson
• Elle est dérivée de la première équation de Maxwell. Elle relie le
potentiel électrique et la densité de charge:
• Dans les SC, deux types de charges (fixes et mobiles):
53
sc
x
dx
dE
dx
V
d

 )
(
2
2




 
)
(
)
(
)
(
)
(
2
2
x
N
x
N
x
n
x
p
e
dx
V
d
A
D
sc








Charge mobiles
(électrons et trous)
Charges fixes
(dopants ionisés)
Longueur de Debye
• Si on écrit l’équation de Poisson dans un type n en exprimant n en
fonction de :
• Si Nd(x) => Nd+Nd(x) , alors Fi est modifié de Fi
54
Fi

 
kT
e
i
d
sc
Fi Fi
e
n
x
N
e
dx
d /
2
2
)
( 





en remarquant que: V(x)=Fi cte
)
(
2
2
2
x
N
e
kT
N
e
dx
d
d
sc
Fi
sc
d
Fi










Longueur de Debye
• Signification physique?
• Solution de l’équation différentielle du 2° degré:
• La « réponse » des bandes n’est pas abrupte mais « prend »
quelques LD ( si Nd=1016 cm-3, LD=0.04µm). Dans cette
région, présence d’un champ électrique (neutralité électrique
non réalisée)
55
D
Fi
L
x
A 

 exp

D
sc
D
N
e
kT
L 2


avec
Temps de relaxation diélectrique
• Comment évolue dans le temps la densité de
porteurs majoritaires ?
• Équation de continuité (R et G négligés):
56
x
J
e
t
n n




 1
n
n E
E
J 
 /

 sc
en
x
E

/




or et
d’où
sc
n
n
t
n






Solution: )
/
exp(
)
( sc
n
t
t
n 



sc
n


  Temps de relaxation diélectrique ( 10-12 s)

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  • 2. Semi-conducteurs à l’équilibre • Dopage des semi-conducteurs • Semi-conducteur intrinsèque • Le dopage n et p • Calcul de la densité de porteurs extrinsèques 2
  • 3. Semi-conducteurs • Structure en bandes d’énergie: • Bande de valence: c’est la dernière bande remplie à T=0K • Bande de conduction: c’est la bande immédiatement au dessus et vide à T=0K 3
  • 4. Notion de trous (+e !) • La notion de bandes permet d’introduire le porteur de charge positif : un trou 4  Aux températures différentes de 0 K, électrons « montent » dans BC, laissent des « trous » dans la BV
  • 5. Conduction bipolaire • La présence d’électrons et  trous entraîne une conduction  bipolaire dans les SC 5  On peut privilégier une        conduction par le dopage   du semi‐conducteur, ie l’introduction d’impuretés E externe
  • 6. Électrons dans une structure Diamant (ex: Si) 6
  • 7. Électrons dans une structure Diamant (ex: Si) 7
  • 8. Densité de porteurs dans les bandes • Fonction de Fermi: • Densité d’états: • Densité de porteurs: 8 Eg kT F E E e E f / ) ( 1 1 ) (    2 / 1 2 / 3 2 * 2 ) ( 2 2 1 ) ( C c C E E m E N             2 / 1 2 / 3 2 * 2 ) ( 2 2 1 ) ( E E m E N V v v                C E n C dE E f E N n ). ( ). (    V E p v dE E f E N p ). ( ). (
  • 9. Densité de porteurs dans les bandes • Approximation de Boltzmann: • Si le niveau de Fermi est à plus de « 3kT » du minimum de la bande de conduction ou du maximum de la bande de valence, on peut simplifier la fonction de distribution: 9 kT E E e E n f F / ) ( ) (    kT E E e E n f F / ) ( ) (    kT E E e E p f F / ) ( ) (    kT E E e E p f F / ) ( ) (   
  • 10. Densité de porteurs dans les bandes • Dans ces conditions (Boltzmann), la densité de porteurs libres s’écrit: • Dans la bande de conduction (électrons): • Dans la bande de valence (trous): 10 ) exp( kT E E N n F C C    ) exp( kT E E N n F C C    ) exp( kT E E N p v F v    ) exp( kT E E N p v F v    avec 2 / 3 2 * 2 2          h kT m N C C 2 / 3 2 * 2 2          h kT m N C C 2 / 3 2 * 2 2          h kT m N v v 2 / 3 2 * 2 2          h kT m N v v avec
  • 11. Loi d’action de masse np=ni 2 • Dans un semi-conducteur intrinsèque, la densité de trous est égale à la densité d’électrons: • En faisant n=p, on obtient le niveau de Fermi intrinsèque: 11 2 2 / 3 * * 3 2 ) exp( ) ( 2 4 i g h e n kT E m m kT np            ) ln( 2 2 V C V C Fi i N N kT E E E E    
  • 12. Semi-conducteur intrinsèque • Variation exponentielle de la densité de porteurs • Si ni>1015cm-3, le matériau inadapté pour des dispositifs électroniques. 12 SC à grands « gap » Type SiC, GaN, Diamant  Remarque:  Le produit np est indépendant du niveau de Fermi Expression valable même si semi-conducteur dopé Introduction du dopage
  • 13. Dopage: introduction de niveau énergétique dans le gap 13 Dopage type n Dopage type p
  • 14. Dopage d’un SC: type n 14
  • 15. Dopage d’un SC: type p 15
  • 16. Variation de la conduction d’un semi-conducteur dopé en fonction de la température 16 3 régimes: •Extrinsèque •Épuisement des donneurs •Intrinsèque Tous les « donneurs sont ionisés
  • 17. Calcul de la position du niveau énergétique Ed ou Ea • Le problème « ressemble » au modèle de l’atome d’hydrogène • Introduction du Rydberg « modifié » : 17 2 0 0 * 6 . 13                   m m E E C d Exemple de dopants et leurs énergies eV n e m En 2 2 2 0 4 0 6 . 13 ) 4 ( 2    
  • 18. Densité de porteurs extrinsèques: • nb d’électrons différents du nb de trous • Mais loi d’action de masse toujours valable, avec n.p=cte (sauf si dopage trop élevé). • Pour déterminer ces concentrations (n et p), on écrit la neutralité électrique du système. 18 0     n p n cste n p n i   2 . 0 ) ( 2 2     i A D n n N N n D A N p N n   
  • 19. Densité de porteurs extrinsèques: • Semi-conducteurs type n (ND>NA): • Dans la pratique (ND, NA, et ND – NA >> )ni si bien que: 19                            2 1 2 2 2 1 2 2 4 ) ( 2 1 4 ) ( 2 1 i A D A D i A D A D n N N N N p n N N N N n ) /( 2 A D i A D N N n p N N n    
  • 20. Niveau de Fermi dans un SC dopé • Si le SC n’est pas dégénéré, l’approximation de Boltzmann reste valable: • Type n et p respectivement • Soit un niveau de Fermi type n et type p donné par: 20 ) exp( ) exp( kT E E N N N p kT E E N N N n V F V D A F C C A D p n           )) /( ln( )) /( ln( D A V V F A D C C F N N N kT E E N N N kT E E p n      
  • 21. Différence Ef - Efi • Au lieu d’exprimer Ef en fonction de Nc et Nv, on peut écrire: type n type p 21           i d i f n N kT E E ln           i a f i n N kT E E ln Fi e
  • 22. • On peut alors exprimer les densité d’électrons et de trous à l’équilibre par: 22 kT e i kT E E i kT e i kT E E i Fi Fi F Fi Fi F e n e n p e n e n n / / ) ( / / ) (           avec: 0 0       Fi F Fi Fi F Fi E E e E E e   type n type p Équations de Boltzmann Différence Ef - Efi
  • 23. Semi-conducteurs dégénérés: approximation de Joyce –Dixon • Dans ce cas , l’approximation de Boltzmann n’est plus valable pour le calcul: • soit de n et p • soit de la position du niveau de Fermi: on utilise alors l’approximation de Joyce-Dixon: 23                   V V V C C C F N p N p kT E N n N n kT E E 8 1 ln 8 1 ln
  • 24. Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs • En fonction de la température, le niveau d’impureté est plus ou moins peuplé. Supposons un SC « avec » ND donneurs et NA accepteurs (ND>NA) • À T=0K •BV =>pleine •EA => NA électrons •ED => ND-NA électrons •BC => vide 24
  • 25. Peuplement des niveaux d’impuretés : gel des porteurs • À température non nulle: les électrons sont redistribués mais leur nombre reste constant !!!. L’équation de neutralité électrique permet de connaître leur répartition: 25 A a i D d i N p n p N n n n       ) ( ) ( a A D d p p N N n n      n, p : électrons (trous) libres dans BC (BV) nd (pa) : électrons (trous) liés aux donneurs (accepteurs)
  • 26. Fonction de distribution des atomes d’impuretés – Principe d’exclusion de Pauli Comparaison de l’image « chimique » et de la description en « bande d’énergie » de l’atome donneur ou accepteur: 26 « liaison chimique » Atome donneur  atome Si + noyau chargé positivement. « Bande d’énergie » Cristal parfait + puits de potentiel attractif sur un site du réseau Mécanique quantique (électrons indépendants) Niveau énergétique Ed dans le gap sous Ec doublement dégénéré (spin up et down) Interaction Coulombienne + écrantage du noyau: Ed diminue Le deuxième électron « s’échappe » : occupation du niveau par un seul électron
  • 27. Probabilité d’occupation du niveau d’impureté • Proba d’occupation et nb d’électrons sur Ed: • Proba de non occupation et nb de trous sur Ea: 27 ) exp 2 1 1 ( kT E E f f d n    kT E E N n f d d d    exp 2 1 1 ) exp 4 1 1 ( kT E E f a f p    kT E E N p a f a a    exp 4 1 1
  • 28. Niveau « donneur »:le facteur 1/2 • Atome de Phosphore (col V): • États électroniques 3s² 3p3 : 2e s et 2e p participent aux liaisons  1e sur le niveau ED (le 5° !) • il (le 5° !) possède un spin particulier up ou down • Une fois l’e parti (f(E)) la « case » vide peut capturer un spin up ou down => le mécanisme (la proba.) de capture est augmenté / à l’émission. 28 ) ( ) ( E f E fD 
  • 29. Semi-conducteur fortement dopé • Si dopage trop important, les impuretés se « voient » (rayon de Bohr 100 angströms) le niveau d’énergie associé s’élargit • Un effet important est la diminution du « Gap » du SC et donc ni augmente!!: 29 meV K T N E d g 2 / 1 18 ) ( 300 10 5 . 22            pour le Silicium
  • 31. Plan: • Recombinaison et génération • Courants dans les SC • Équation de densité de courants • Équations de continuité • Longueur de Debye • Équation de Poisson • Temps de relaxation diélectrique 31
  • 32. Phénomènes de Génération - Recombinaison • Loi d’action de masse: • À l’équilibre thermodynamique: • Hors équilibre: apparition de phénomènes de Génération - Recombinaison • création ou recombinaison de porteurs : Unité [g]=[r]=s-1cm-3 • Taux net de recombinaison: 32 r g r g g r g th       ' ' ' avec th g r r   ' externe interne 2 i n np 
  • 33. Différents chemins de recombinaison 33 Génération bande à bande Génération depuis état lié
  • 34. Recombinaison: 2 « chemins » possibles • Recombinaison directe électron-trou • Processus fonction du nombre d’électron et de trous • Exemple: type n +excitation lumineuse en faible injection ( ie ) • En régime de faible injection le nombre de porteurs majoritaires n’est pas affecté. 34 p p p r    n n n r    p p p    0 0 0 n n n n     0 n p n    
  • 35. Recombinaison: 2 « chemins » possibles • Recombinaison par centres de recombinaison: • En général ces centres se trouvent en milieu de bande interdite • Le taux de recombinaison s’écrit: • Où est caractéristique du centre recombinant • Si les 2 processus s’appliquent: 35 m  ) ( 1 1 1 p n m      n p n n np r i i m     2 1 2  Équation de Shockley-Read
  • 36. Recombinaison: 2 « chemins » possibles • Si semi-conducteur peu dopé: on applique SR • Si semi-conducteur dopé n: • Si région « vide » de porteurs (ex: ZCE) 36 p p p r    0 2    m i n r  Taux net de génération. Création de porteurs
  • 40. Courants dans les SC • Courant de conduction: présence de champ électrique • Si E=0, vitesse des électron=vitesse thermique (107 cm/s) mais => vitesse moyenne nulle car chocs (« scattering ») avec le réseau + impuretés. • Libre parcours moyen (« mean free path »): 40 o A 100 .    vth l ps 1 . 0  
  • 41. Courants dans les SC • Courant de conduction: présence de champ électrique • Entre deux chocs, les électrons sont accélérés uniformément suivant • Accélération: • Vitesse: • Mobilité: 41 * /m qE    E  µE m qE v     * /  * /m q µ   Si : 1500 cm2/Vs GaAs: 8500 cm2/Vs In0.53Ga0.47As:11000 cm2/Vs
  • 42. Courants dans les SC • La densité de courant de conduction s’écrit: • Pour les électrons: • Pour les trous: • Pour l’ensemble: 42 E neµ v ne J n n n c    E neµ v ne J n n n c    E peµ v pe J p p p c    E peµ v pe J p p p c    E peµ neµ J J J p n p n total c ) (     E peµ neµ J J J p n p n total c ) (    
  • 43. Courants dans les SC • Importance de la mobilité sur les composants • Mobilité la plus élevée possible • => vitesse plus grande pour un même E • Facteurs limitants: • Dopage • Défauts (cristallins, structuraux, …) • Température • Champ électrique de saturation + géométrie 43
  • 44. Courants dans les SC • Vitesse de saturation des électrons • La relation linéaire vitesse – champ valide uniquement pour: • Champ électrique pas trop élevé • Porteurs en équilibre thermique avec le réseau • Sinon: • Au-delà d’un champ critique, saturation de la vitesse • Apparition d’un autre phénomène: « velocity overshoot » pour des semiconducteurs multivallée. • Régime balistique:pour des dispositifs de dimensions inférieures au libre parcours moyen (0.1µm) 44
  • 45. Vitesse de saturation • Différents comportement en fonction du SC 45 Survitesse (« overshoot »)
  • 46. 46 Survitesse dans le cas de SC multi vallées
  • 47. Courants dans les SC • Courant de diffusion: • Origine: gradient de concentration • Diffusion depuis la région de forte concentration vers la région de moindre []. • 1° loi de Fick: 47 dx dp D p dx dn D n p x D n x D     nb d’e- qui diffusent par unité de temps et de volume (flux) nb de h+ qui diffusent par unité de temps et de volume (flux)
  • 48. Courants dans les SC • Courant de diffusion: somme des deux contributions (électrons et trous): • Constante ou coefficient de diffusion [ ]=cm2/s. 48 dx dp eD dx dn eD p n e J p n x D x D diff      ) ( p n D ,
  • 49. Courants dans les SC • Courant total: somme des deux contributions (si elles existent) de conduction et diffusion: • D et µ expriment la faculté des porteurs à se déplacer. Il existe une relation entre eux: relation d’Einstein: 49 ) ( ) ( dx dp D dx dn D e E peµ neµ J J J J J J p n p n T p n diff cond T         e kT µ D  e kT µ D 
  • 50. Équations de continuité – longueur de diffusion • G et R altèrent la distribution des porteurs donc du courant 50 G R e x dx x dJ A dt t x dn x A G R e x J e x x J A dt t x dn x A n n n                   ) ( ) , ( ) ( ) ( ) , (  On obtient alors les équations de continuité pour les électrons et les trous: n n n g r dx dJ e dt t x dn    1 ) , ( n n n g r dx dJ e dt t x dn    1 ) , ( p p p g r dx dJ e dt t x dp     1 ) , ( p p p g r dx dJ e dt t x dp     1 ) , (
  • 51. Équations de continuité – longueur de diffusion • Exemple: cas où le courant est exclusivement du à de la diffusion: 51 dx dp eD diff J dx dn eD diff J p p n n    ) ( ) ( dx dp eD diff J dx dn eD diff J p p n n    ) ( ) ( n n n n dx n d D dt dn  0 2 2    n n n n dx n d D dt dn  0 2 2    p p p p dx p d D dt dp  0 2 2    p p p p dx p d D dt dp  0 2 2   
  • 52. Équations de continuité – longueur de diffusion • En régime stationnaire, les dérivées par rapport au temps s’annulent: • Solutions: 52 2 0 0 2 0 2 ) ( n n n L n n D n n dx n n d       2 0 0 2 0 2 ) ( n n n L n n D n n dx n n d       2 0 0 2 0 2 ) ( p p p L p p D p p dx p p d       2 0 0 2 0 2 ) ( p p p L p p D p p dx p p d       n L x e n n x n x n / 0 ) 0 ( ) ) ( ( ) (       n L x e n n x n x n / 0 ) 0 ( ) ) ( ( ) (        Longueur de diffusion: représente la distance moyenne parcourue avant que l’électron ne se recombine avec un trou (qq microns voire qq mm)  Ln ou Lp >> aux dispos VLSI  R et G jouent un petit rôle sauf dans qq cas précis (Taur et al) n n n D L   n n n D L   p p p D L   p p p D L  
  • 53. Équation de Poisson • Elle est dérivée de la première équation de Maxwell. Elle relie le potentiel électrique et la densité de charge: • Dans les SC, deux types de charges (fixes et mobiles): 53 sc x dx dE dx V d   ) ( 2 2       ) ( ) ( ) ( ) ( 2 2 x N x N x n x p e dx V d A D sc         Charge mobiles (électrons et trous) Charges fixes (dopants ionisés)
  • 54. Longueur de Debye • Si on écrit l’équation de Poisson dans un type n en exprimant n en fonction de : • Si Nd(x) => Nd+Nd(x) , alors Fi est modifié de Fi 54 Fi    kT e i d sc Fi Fi e n x N e dx d / 2 2 ) (       en remarquant que: V(x)=Fi cte ) ( 2 2 2 x N e kT N e dx d d sc Fi sc d Fi          
  • 55. Longueur de Debye • Signification physique? • Solution de l’équation différentielle du 2° degré: • La « réponse » des bandes n’est pas abrupte mais « prend » quelques LD ( si Nd=1016 cm-3, LD=0.04µm). Dans cette région, présence d’un champ électrique (neutralité électrique non réalisée) 55 D Fi L x A    exp  D sc D N e kT L 2   avec
  • 56. Temps de relaxation diélectrique • Comment évolue dans le temps la densité de porteurs majoritaires ? • Équation de continuité (R et G négligés): 56 x J e t n n      1 n n E E J   /   sc en x E  /     or et d’où sc n n t n       Solution: ) / exp( ) ( sc n t t n     sc n     Temps de relaxation diélectrique ( 10-12 s)