The document discusses chemical vapor deposition (CVD) processes for thin film deposition in microelectronics processing. CVD involves depositing a thin solid film on a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. Key aspects covered include common CVD systems like atmospheric pressure CVD, low pressure CVD, and plasma enhanced CVD. The document also examines the CVD kinetic growth model, factors that influence the growth rate like mass transfer and surface reactions, examples of CVD films like silicon nitride and polysilicon, and steps in the CVD process.
This document discusses physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) techniques for thin film deposition. It covers common PVD methods like thermal evaporation, sputtering, and molecular beam epitaxy. It also discusses CVD reaction mechanisms, step coverage, and overview. Key aspects include comparing evaporation and sputtering, deriving equations for mean free path and deposition rate, and factors affecting step coverage in CVD like temperature and pressure.
Luc Van Den Durpel, Président de la Section Française de l'American Nuclear Society (SFANS), partage sa vision avec les membres de la SFEN Languedoc-Roussillon Vallée du Rhône, le 17 décembre 2013
This is a quick overview of the concept of business ecosystem applied to the "world of basket-ball". It is done in the context of a doctoral research in Strategic Management.
The document discusses chemical vapor deposition (CVD) and was presented by a team of 4 students. CVD involves depositing a solid film on a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. The major sections describe the CVD apparatus, process, types including atmospheric pressure CVD, low pressure CVD and plasma enhanced CVD. The applications of CVD include coatings, semiconductor devices, optical fibers and composites. Advantages are high growth rates, versatility in deposited materials and purity. Disadvantages include high temperatures and complex toxic processes.
The document discusses chemical vapor deposition (CVD) processes for thin film deposition in microelectronics processing. CVD involves depositing a thin solid film on a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. Key aspects covered include common CVD systems like atmospheric pressure CVD, low pressure CVD, and plasma enhanced CVD. The document also examines the CVD kinetic growth model, factors that influence the growth rate like mass transfer and surface reactions, examples of CVD films like silicon nitride and polysilicon, and steps in the CVD process.
This document discusses physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD) techniques for thin film deposition. It covers common PVD methods like thermal evaporation, sputtering, and molecular beam epitaxy. It also discusses CVD reaction mechanisms, step coverage, and overview. Key aspects include comparing evaporation and sputtering, deriving equations for mean free path and deposition rate, and factors affecting step coverage in CVD like temperature and pressure.
Luc Van Den Durpel, Président de la Section Française de l'American Nuclear Society (SFANS), partage sa vision avec les membres de la SFEN Languedoc-Roussillon Vallée du Rhône, le 17 décembre 2013
This is a quick overview of the concept of business ecosystem applied to the "world of basket-ball". It is done in the context of a doctoral research in Strategic Management.
The document discusses chemical vapor deposition (CVD) and was presented by a team of 4 students. CVD involves depositing a solid film on a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. The major sections describe the CVD apparatus, process, types including atmospheric pressure CVD, low pressure CVD and plasma enhanced CVD. The applications of CVD include coatings, semiconductor devices, optical fibers and composites. Advantages are high growth rates, versatility in deposited materials and purity. Disadvantages include high temperatures and complex toxic processes.
Chemical vapor deposition (CVD) involves depositing a solid material onto a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. CVD systems include precursor supply, heated reactors to decompose precursors, and effluent gas handling. During CVD, precursors are transported to the substrate surface through diffusion and convection, react on the surface, and deposit the solid material as a thin film as gaseous byproducts desorb. CVD is used to deposit a variety of materials and has applications in semiconductors, coatings, and fiber optics.
Chemical Vaour Deposition & Physical Vapour Deposition techniques.Tapan Patel
This document provides an overview of chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. CVD involves reacting vapor phase chemicals in a reaction chamber to form a thin solid film on a substrate. Key steps in the CVD process include transporting reactants, adsorption on the substrate surface, and desorption of byproducts. PVD involves vaporizing a solid material using techniques like evaporation, sputtering, or pulsed laser deposition under vacuum conditions. The vaporized material then condenses as a thin film on the substrate. The document compares advantages and applications of the two deposition methods.
Coal is mined, crushed into a fine powder, and burned in a boiler to produce steam. The steam powers a turbine which spins a generator to produce electricity. The electricity is then sent through power lines to substations and distributed to homes.
The document provides an overview of chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. CVD involves reacting vapor phase chemicals in a chamber to form a thin solid film on a substrate. It can be used to deposit a variety of materials. PVD involves physically vaporizing a material in a chamber and re-depositing it as a thin film on a substrate. It has various variants like sputtering and evaporative deposition. Both CVD and PVD are used to deposit thin films for applications like semiconductor devices, coatings, optical fibers and composites.
Wind turbines convert the kinetic energy of wind into mechanical energy using rotor blades, a shaft, and a generator. As wind passes through rotor blades, lift and drag forces cause them to spin, transferring mechanical energy to the generator via the shaft. Within the generator, this mechanical energy is converted into electrical energy via electromagnetic induction. Additional gearing is often used to increase the rotor shaft's RPM to a rate suitable for efficient electricity production. Horizontal axis wind turbines also use yaw systems to face rotor blades into the wind for maximum energy capture as wind direction changes. Braking mechanisms limit blade speed during high winds to prevent equipment damage.
Chemical vapor deposition (CVD) is a process used to produce high-purity solid materials through chemical reactions of vapor phase precursors on a substrate. Key steps include transport of reactants to the substrate surface, adsorption and decomposition reactions, and removal of byproducts. CVD processes are classified based on operating pressure and can be used to deposit a variety of materials through control of temperature, precursor gases, and other parameters.
Chemistry word can be represented as C for chemistry, H for health, E for environment, M for medicines, I for industries, S for sciences, T for teaching, R for research and Y for you.
we are a living chemistry as we are made of chemicals only and there are a lot of chemical reactions going in our body.
Vapor Deposition Pattern Transfer discusses various deposition techniques including physical vapor deposition (PVD) methods like thermal evaporation and sputtering, as well as chemical vapor deposition (CVD). It describes the basic processes, parameters, and applications of these techniques for depositing thin films including considerations for step coverage, reaction mechanisms, and mass transport effects.
Travaux de recherche de l'Instititut des Matériaux Jean Rouxel / CNRS à Nantes. Etat de la recherche sur les différentes formes de stockage couvrant les photobatteries, supercondensateurs, électrolyseurs, piles à combustibles et les projets du territoire (ValorPAC / Intégration d’une pile à combustible dans une chaîne de valorisation de déchets avec gazéification).
Présentation du Professeur Jacqueline Lecomte-Beckers, réalisée dans le cadre du Lab'InSight Innovative and Substainable Coatings, le 12.05.2016 à l'UMONS
Séminaire de clôture du projet SOTHERCO | Arlon (ULg) - 20 septembre 2017Cluster TWEED
Workshop de clôture du projet SOTHERCO : développement d'un stockage compact de la chaleur sous forme thermochimique, avec de nombreux partenaires nationaux (Besol, UMons, ULB, ULg) et internationaux (UVSQ, INES et Clipso pour la France et AIT pour l'Autriche).
Chemical vapor deposition (CVD) involves depositing a solid material onto a substrate through chemical reactions of vapor phase precursors. CVD systems include precursor supply, heated reactors to decompose precursors, and effluent gas handling. During CVD, precursors are transported to the substrate surface through diffusion and convection, react on the surface, and deposit the solid material as a thin film as gaseous byproducts desorb. CVD is used to deposit a variety of materials and has applications in semiconductors, coatings, and fiber optics.
Chemical Vaour Deposition & Physical Vapour Deposition techniques.Tapan Patel
This document provides an overview of chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. CVD involves reacting vapor phase chemicals in a reaction chamber to form a thin solid film on a substrate. Key steps in the CVD process include transporting reactants, adsorption on the substrate surface, and desorption of byproducts. PVD involves vaporizing a solid material using techniques like evaporation, sputtering, or pulsed laser deposition under vacuum conditions. The vaporized material then condenses as a thin film on the substrate. The document compares advantages and applications of the two deposition methods.
Coal is mined, crushed into a fine powder, and burned in a boiler to produce steam. The steam powers a turbine which spins a generator to produce electricity. The electricity is then sent through power lines to substations and distributed to homes.
The document provides an overview of chemical vapor deposition (CVD) and physical vapor deposition (PVD) processes. CVD involves reacting vapor phase chemicals in a chamber to form a thin solid film on a substrate. It can be used to deposit a variety of materials. PVD involves physically vaporizing a material in a chamber and re-depositing it as a thin film on a substrate. It has various variants like sputtering and evaporative deposition. Both CVD and PVD are used to deposit thin films for applications like semiconductor devices, coatings, optical fibers and composites.
Wind turbines convert the kinetic energy of wind into mechanical energy using rotor blades, a shaft, and a generator. As wind passes through rotor blades, lift and drag forces cause them to spin, transferring mechanical energy to the generator via the shaft. Within the generator, this mechanical energy is converted into electrical energy via electromagnetic induction. Additional gearing is often used to increase the rotor shaft's RPM to a rate suitable for efficient electricity production. Horizontal axis wind turbines also use yaw systems to face rotor blades into the wind for maximum energy capture as wind direction changes. Braking mechanisms limit blade speed during high winds to prevent equipment damage.
Chemical vapor deposition (CVD) is a process used to produce high-purity solid materials through chemical reactions of vapor phase precursors on a substrate. Key steps include transport of reactants to the substrate surface, adsorption and decomposition reactions, and removal of byproducts. CVD processes are classified based on operating pressure and can be used to deposit a variety of materials through control of temperature, precursor gases, and other parameters.
Chemistry word can be represented as C for chemistry, H for health, E for environment, M for medicines, I for industries, S for sciences, T for teaching, R for research and Y for you.
we are a living chemistry as we are made of chemicals only and there are a lot of chemical reactions going in our body.
Vapor Deposition Pattern Transfer discusses various deposition techniques including physical vapor deposition (PVD) methods like thermal evaporation and sputtering, as well as chemical vapor deposition (CVD). It describes the basic processes, parameters, and applications of these techniques for depositing thin films including considerations for step coverage, reaction mechanisms, and mass transport effects.
Travaux de recherche de l'Instititut des Matériaux Jean Rouxel / CNRS à Nantes. Etat de la recherche sur les différentes formes de stockage couvrant les photobatteries, supercondensateurs, électrolyseurs, piles à combustibles et les projets du territoire (ValorPAC / Intégration d’une pile à combustible dans une chaîne de valorisation de déchets avec gazéification).
Présentation du Professeur Jacqueline Lecomte-Beckers, réalisée dans le cadre du Lab'InSight Innovative and Substainable Coatings, le 12.05.2016 à l'UMONS
Séminaire de clôture du projet SOTHERCO | Arlon (ULg) - 20 septembre 2017Cluster TWEED
Workshop de clôture du projet SOTHERCO : développement d'un stockage compact de la chaleur sous forme thermochimique, avec de nombreux partenaires nationaux (Besol, UMons, ULB, ULg) et internationaux (UVSQ, INES et Clipso pour la France et AIT pour l'Autriche).
Les matériaux spécifiques pour usage nucléaireASPhoenix
Quel que soit le domaine d’activité, le design des produits et le choix des matériaux dépendra des conditions de
service de l’équipement à réaliser. Et dans le domaine du nucléaire, ces conditions de service sont étroitement
liées aux paramètres suivants : Durées de vie d’installation longue - Taux de marche élevé - Facteurs
environnementaux plus ou moins extrêmes. L’ensemble de ces facteurs ont forcément une influence sur les matériaux au cours du temps : on parle alors de
phénomène de vieillissement au sens large pour inclure à la fois l’évolution des propriétés physiques et
mécaniques des matériaux mais également les éventuelles possibilités d’érosion ou/et de corrosion.
Fives Stein is a manufacturer located in Bar le Duc, France specializing in furnaces, galvanizing lines, flat glass production equipment, and other industrial machinery. It has extensive workshop facilities and equipment for metalworking, welding, and painting. Examples of products include rolls, steel structures, casing for continuous annealing lines, and specialized machines. Fives Stein also performs subcontracting work for the nuclear, petrochemical, and other industries.
L'IA connaît une croissance rapide et son intégration dans le domaine éducatif soulève de nombreuses questions. Aujourd'hui, nous explorerons comment les étudiants utilisent l'IA, les perceptions des enseignants à ce sujet, et les mesures possibles pour encadrer ces usages.
Constat Actuel
L'IA est de plus en plus présente dans notre quotidien, y compris dans l'éducation. Certaines universités, comme Science Po en janvier 2023, ont interdit l'utilisation de l'IA, tandis que d'autres, comme l'Université de Prague, la considèrent comme du plagiat. Cette diversité de positions souligne la nécessité urgente d'une réponse institutionnelle pour encadrer ces usages et prévenir les risques de triche et de plagiat.
Enquête Nationale
Pour mieux comprendre ces dynamiques, une enquête nationale intitulée "L'IA dans l'enseignement" a été réalisée. Les auteurs de cette enquête sont Le Sphynx (sondage) et Compilatio (fraude académique). Elle a été diffusée dans les universités de Lyon et d'Aix-Marseille entre le 21 juin et le 15 août 2023, touchant 1242 enseignants et 4443 étudiants. Les questionnaires, conçus pour étudier les usages de l'IA et les représentations de ces usages, abordaient des thèmes comme les craintes, les opportunités et l'acceptabilité.
Résultats de l'Enquête
Les résultats montrent que 55 % des étudiants utilisent l'IA de manière occasionnelle ou fréquente, contre 34 % des enseignants. Cependant, 88 % des enseignants pensent que leurs étudiants utilisent l'IA, ce qui pourrait indiquer une surestimation des usages. Les usages identifiés incluent la recherche d'informations et la rédaction de textes, bien que ces réponses ne puissent pas être cumulées dans les choix proposés.
Analyse Critique
Une analyse plus approfondie révèle que les enseignants peinent à percevoir les bénéfices de l'IA pour l'apprentissage, contrairement aux étudiants. La question de savoir si l'IA améliore les notes sans développer les compétences reste débattue. Est-ce un dopage académique ou une opportunité pour un apprentissage plus efficace ?
Acceptabilité et Éthique
L'enquête révèle que beaucoup d'étudiants jugent acceptable d'utiliser l'IA pour rédiger leurs devoirs, et même un quart des enseignants partagent cet avis. Cela pose des questions éthiques cruciales : copier-coller est-il tricher ? Utiliser l'IA sous supervision ou pour des traductions est-il acceptable ? La réponse n'est pas simple et nécessite un débat ouvert.
Propositions et Solutions
Pour encadrer ces usages, plusieurs solutions sont proposées. Plutôt que d'interdire l'IA, il est suggéré de fixer des règles pour une utilisation responsable. Des innovations pédagogiques peuvent également être explorées, comme la création de situations de concurrence professionnelle ou l'utilisation de détecteurs d'IA.
Conclusion
En conclusion, bien que l'étude présente des limites, elle souligne un besoin urgent de régulation. Une charte institutionnelle pourrait fournir un cadre pour une utilisation éthique.
Le Comptoir OCTO - Qu’apporte l’analyse de cycle de vie lors d’un audit d’éco...OCTO Technology
Par Nicolas Bordier (Consultant numérique responsable @OCTO Technology) et Alaric Rougnon-Glasson (Sustainable Tech Consultant @OCTO Technology)
Sur un exemple très concret d’audit d’éco-conception de l’outil de bilan carbone C’Bilan développé par ICDC (Caisse des dépôts et consignations) nous allons expliquer en quoi l’ACV (analyse de cycle de vie) a été déterminante pour identifier les pistes d’actions pour réduire jusqu'à 82% de l’empreinte environnementale du service.
Vidéo Youtube : https://www.youtube.com/watch?v=7R8oL2P_DkU
Compte-rendu :
OCTO TALKS : 4 Tech Trends du Software Engineering.pdfOCTO Technology
En cette année 2024 qui s’annonce sous le signe de la complexité, avec :
- L’explosion de la Gen AI
-Un contexte socio-économique sous tensions
- De forts enjeux sur le Sustainable et la régulation IT
- Une archipélisation des lieux de travail post-Covid
Découvrez les Tech trends incontournables pour délivrer vos produits stratégiques.
Le Comptoir OCTO - Équipes infra et prod, ne ratez pas l'embarquement pour l'...OCTO Technology
par Claude Camus (Coach agile d'organisation @OCTO Technology) et Gilles Masy (Organizational Coach @OCTO Technology)
Les équipes infrastructure, sécurité, production, ou cloud, doivent consacrer du temps à la modernisation de leurs outils (automatisation, cloud, etc) et de leurs pratiques (DevOps, SRE, etc). Dans le même temps, elles doivent répondre à une avalanche croissante de demandes, tout en maintenant un niveau de qualité de service optimal.
Habitué des environnements développeurs, les transformations agiles négligent les particularités des équipes OPS. Lors de ce comptoir, nous vous partagerons notre proposition de valeur de l'agilité@OPS, qui embarquera vos équipes OPS en Classe Business (Agility), et leur fera dire : "nous ne reviendrons pas en arrière".
Ouvrez la porte ou prenez un mur (Agile Tour Genève 2024)Laurent Speyser
(Conférence dessinée)
Vous êtes certainement à l’origine, ou impliqué, dans un changement au sein de votre organisation. Et peut être que cela ne se passe pas aussi bien qu’attendu…
Depuis plusieurs années, je fais régulièrement le constat de l’échec de l’adoption de l’Agilité, et plus globalement de grands changements, dans les organisations. Je vais tenter de vous expliquer pourquoi ils suscitent peu d'adhésion, peu d’engagement, et ils ne tiennent pas dans le temps.
Heureusement, il existe un autre chemin. Pour l'emprunter il s'agira de cultiver l'invitation, l'intelligence collective , la mécanique des jeux, les rites de passages, .... afin que l'agilité prenne racine.
Vous repartirez de cette conférence en ayant pris du recul sur le changement tel qu‘il est généralement opéré aujourd’hui, et en ayant découvert (ou redécouvert) le seul guide valable à suivre, à mon sens, pour un changement authentique, durable, et respectueux des individus! Et en bonus, 2 ou 3 trucs pratiques!
1. Contribution à la sélection des matériaux métalliques en vue d’applications nucléaires Institut Jean Lamour - Equipe 206 Institut Jean Lamour - UMR 7198 12 Novembre 2009 Bure
2. Institut Jean Lamour - UMR 7198 12 Novembre 2009 Institut Jean Lamour Physique de la Matière et des Matériaux Plasmas Chauds – LPMIA Physique statistique – LPM/LPMIA Propriétés Electroniques et Magnétiques des Matériaux Fonctionnels – LPM Physique des Surfaces - LPM Conception et réalisation de micro et nanosystèmes – LPMIA/LPM Synthèse et Caractérisation d’Intermétalliques - LCSM Sections concernées au Comité national* : 2, 5, 6, 8, 10 * Dans l’ancienne nomenclature des sections Chimie-Physique des Solides et des Surfaces Procédés de Modification des Surfaces par Voie Sèche – LSGS Plasmas Réactifs et Couches Minces – LPMIA Métallurgie et Surfaces – LSG2M Thermodynamique et Corrosion – LCSM Matériaux pour hautes températures – LCSM Matériaux à Squelette Carboné - LCSM Matériaux Thermoélectriques – LPM Nanomatériaux - LPM Sections concernées au Comité national* : 6, 8, 10, 19 Élaboration, Microstructures et Propriétés Procédés d’élaboration - LSG2M Solidification - LSG2M Thermique-Mécanique et Microstructures - LSG2M Plasticité des Matériaux inorganiques – LPM Polymères, Composites et Verres – LPM Caractérisation , , mécanique des surfaces modifiées – LSGS Sections concernées au Comité national : 5, 9, 10, 19, peut-être 15 pour les polyméristes
3. D.Veys-Renaux J. Steinmetz E. Rocca Matériaux orthodontiques P. Steinmetz C. Rapin J.M.Fiorani J.J. Kuntz N.David S.Mathieu M.Vilasi Cor Haute T° Verre Thermo Cor Basse T° carboxylates D.Veys-Renaux P. Berthod L. Aranda P.J. Panteix C. Petitjean Présentation de l’équipe 12 Novembre 2009 Institut Jean Lamour - UMR 7198